术语词典

光线沿物镜轴向照射样品，适合反光表面、金属和晶圆样品的细节观察。 选型和验收时应结合粗糙度和台阶高度测量等真实应用，重点核对照明方式与反光控制，并用代表性样品确认结果是否稳定可重复。

同一样品多次测量结果的一致性，是工业检测和质量控制中比单次分辨率更重要的指标。 选型和验收时应结合精密加工件尺寸复核等真实应用，重点核对大样品台和电动平台，并用代表性样品确认结果是否稳定可重复。

用于容纳较厚或不规则样品，决定仪器能否直接观察整机部件、治具或大尺寸工件。 选型和验收时应结合半导体封装和材料表面检查等真实应用，重点核对报告模板和计量溯源，并用代表性样品确认结果是否稳定可重复。

将不同焦面的清晰信息合成为一张全焦图，适合观察高度起伏明显的工业样品。 选型和验收时应结合失效分析和来料检测等真实应用，重点核对景深合成效果，并用代表性样品确认结果是否稳定可重复。

利用干涉信号测量表面高度，适合高精度非接触轮廓、粗糙度和台阶高度测量。 选型和验收时应结合焊点、裂纹和污染物观察等真实应用，重点核对Z 向测量重复性，并用代表性样品确认结果是否稳定可重复。

光线沿物镜轴向照射样品，适合反光表面、金属和晶圆样品的细节观察。 选型和验收时应结合粗糙度和台阶高度测量等真实应用，重点核对照明方式与反光控制，并用代表性样品确认结果是否稳定可重复。

同一样品多次测量结果的一致性，是工业检测和质量控制中比单次分辨率更重要的指标。 选型和验收时应结合精密加工件尺寸复核等真实应用，重点核对大样品台和电动平台，并用代表性样品确认结果是否稳定可重复。

用于容纳较厚或不规则样品，决定仪器能否直接观察整机部件、治具或大尺寸工件。 选型和验收时应结合半导体封装和材料表面检查等真实应用，重点核对报告模板和计量溯源，并用代表性样品确认结果是否稳定可重复。

通过抑制离焦光获得样品内部薄层图像，是共聚焦、多光子和光片成像判断三维结构的基础概念。 选型和验收时应结合活细胞动态成像等真实应用，重点核对横向/轴向分辨率，并用代表性样品确认结果是否稳定可重复。

用近红外飞秒激光在焦点处产生非线性激发，适合厚组织、活体样品和低散射深部成像。 选型和验收时应结合组织透明化三维重构等真实应用，重点核对激发波长与检测通道，并用代表性样品确认结果是否稳定可重复。

通过 STED、SIM、单分子定位或相关算法提高空间分辨率，用于观察普通共聚焦难以分开的细微结构。 选型和验收时应结合神经环路和类器官观察等真实应用，重点核对光毒性和漂白控制，并用代表性样品确认结果是否稳定可重复。

在活细胞和长时间成像中控制激发功率、曝光时间和扫描策略，避免荧光漂白或生理状态改变。 选型和验收时应结合亚细胞结构定位等真实应用，重点核对扫描速度与视场，并用代表性样品确认结果是否稳定可重复。