Evident BX53M 正置工业材料显微镜

产品概述

面向金属、电子器件、半导体和工业材料检验的模块化正置显微镜。BX53M 采用 UIS2 无限远校正光学系统，可组合反射明场、暗场、微分干涉、偏光、荧光、红外及 MIX 混合照明，并通过编码部件和成像软件提高检测条件的可追溯性。

核心特点

• 光学系统：UIS2 无限远校正光学系统。
• 总放大倍率：12.5×–1500×。
• 观察方式：反射明场、暗场、DIC、偏光、MIX、荧光、红外（依配置）。
• 照明光源：白光 LED。
• 调焦行程：25 mm。
• 微调最小刻度：1 µm。
• 最大样品高度：反射配置标准 65 mm；加高适配器可达 105 mm。
• 载物台选项：76×52、100×100 或 150×100 mm。

典型应用

适用于晶圆与封装、PCB、金属组织、涂层、颗粒、玻璃陶瓷、显示面板和失效分析中的表面缺陷、尺寸、结构及材料对比观察。

选型提示

选型时应结合样品类型、目标空间与时间分辨率、观察模式、物镜、激光与探测器、自动化通量、活细胞环境控制和数据处理能力。表中标注“依配置”的项目应按具体系统组合逐项确认。