技术文章
半导体晶圆检测与量测设备配置要点
围绕缺陷检测、薄膜量测、套刻、掩膜检测和工艺窗口,梳理晶圆检测平台采购逻辑。
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产品简介
采用光谱反射法进行自动多点薄膜厚度映射,可快速测量膜厚和折射率分布;F50 系列按光谱配置覆盖约 0.005 μm 至 2000 μm 的不同膜厚范围。
KLA Filmetrics F50 是在 F20 光谱反射平台基础上集成自动样品移动与映射的软件化薄膜测量系统,可对多种形状样品进行非接触膜厚和折射率均匀性分析。不同光谱配置覆盖紫外、可见、近红外和扩展近红外区域,适合研发和质量控制中的多点自动测量。
KLA Filmetrics F50 自动薄膜厚度映射仪 对应型号为 Filmetrics F50,本页参数按制造商当前公开产品页或规格资料逐项核对,便于方案比较和采购选型。
半导体晶圆、光学镀膜、显示器件、聚合物膜、玻璃与金属基底的膜厚、折射率和面内均匀性检测。
建立测量方案时,应结合样品材料、结构尺度、所需数据类型、测量节拍、自动化接口和环境控制条件确定配置。
建议重点确认光谱或扫描范围、样品尺寸、空间分辨率、重复性、测量速度、分析软件、自动平台和所需附件。扩展波段、探测器、样品台与应用模块可能属于选件,应按具体料号核对。
| 参数项 | 数值 |
|---|---|
| 品牌 | KLA Filmetrics |
| 型号 | F50 |
| 测量原理 | 光谱反射法 |
| 标准膜厚范围 | 0.02–70 µm |
| EXR 膜厚范围 | 0.02–250 µm |
| NIR 膜厚范围 | 0.1–250 µm |
| UV 膜厚范围 | 0.005–40 µm |
| UVX 膜厚范围 | 0.005–250 µm |
| XT 膜厚范围 | 0.2–450 µm |
| 标准波长范围 | 380–1050 nm |
| 标准光斑 | 1500 µm |
| 映射速度 | 最高约 2 点/s |
| 测量结果 | 膜厚与折射率 |
| 映射方式 | 自动多点映射 |
技术文章
围绕缺陷检测、薄膜量测、套刻、掩膜检测和工艺窗口,梳理晶圆检测平台采购逻辑。
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配置清单
代理服务
可协助需求梳理、样品测试、方法评估、配置核对、安装培训及售后对接;授权、价格、交期和供货范围以正式商务确认为准。
应用场景
晶圆薄膜厚度映射
光学镀膜均匀性
光伏与显示材料
研发和质量控制
资料依据
页面内容以品牌方公开资料、产品参数和售前配置复核为基础。正式价格、授权关系、供货周期和最终配置以商务确认为准。
资料核验:2026-09-01