技术文章
半导体晶圆检测与量测设备配置要点
围绕缺陷检测、薄膜量测、套刻、掩膜检测和工艺窗口,梳理晶圆检测平台采购逻辑。
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产品简介
采用光谱反射法进行自动多点薄膜厚度映射,可快速测量膜厚和折射率分布;F50 系列按光谱配置覆盖约 0.005 μm 至 2000 μm 的不同膜厚范围。
采用光谱反射法进行自动多点薄膜厚度映射,可快速测量膜厚和折射率分布;F50 系列按光谱配置覆盖约 0.005 μm 至 2000 μm 的不同膜厚范围。
适用于半导体、光伏、显示、光学镀膜和材料研发的晶圆、基片及薄膜厚度均匀性测量。
应根据膜层材料、厚度范围、光斑、基底和点位数量选择 F50、UV、NIR、EXR、XT 或其他版本。
页面依据供应商公开资料整理。实际性能受型号配置、光学组件、样品、环境和软件选件影响,正式采购以供应商最新规格书、具体料号和技术协议为准。
| 参数项 | 数值 |
|---|---|
| 品牌 | KLA Filmetrics |
| 型号 | Filmetrics F50 |
| 测量原理 | 光谱反射法 |
| 标准膜厚范围 | 0.02–70 μm |
| 标准光谱范围 | 380–1050 nm |
| 标准光斑 | 约 1500 μm |
| 扩展膜厚范围 | 不同版本最高约 2000 μm |
| 功能 | 自动多点映射 |
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围绕缺陷检测、薄膜量测、套刻、掩膜检测和工艺窗口,梳理晶圆检测平台采购逻辑。
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配置清单
代理服务
可协助需求梳理、样品测试、方法评估、配置核对、安装培训及售后对接;授权、价格、交期和供货范围以正式商务确认为准。
应用场景
晶圆薄膜厚度映射
光学镀膜均匀性
光伏与显示材料
研发和质量控制
资料依据
页面内容以品牌方公开资料、产品参数和售前配置复核为基础。正式价格、授权关系、供货周期和最终配置以商务确认为准。
资料核验:2026-09-01