日立高新 Hitachi High-Tech EA8000A X射线异物分析仪

产品概述

将 X 射线透射成像、荧光 X 射线元素分析和光学观察集成于一体，可自动检测、定位并识别电极片和有机薄膜中的微小金属异物。

核心特点

• X 射线成像、XRF 元素分析和光学显微镜一体化
• 可检测约 20 μm 级金属异物
• 支持 Mg（12）至 U（92）元素分析
• 250 × 200 mm 区域检测约 3–10 分钟

典型应用

适用于锂离子电池电极、隔膜、有机薄膜、粉末和工业材料中的金属异物检测、尺寸测量与元素识别。

选型提示

重点确认样品尺寸、厚度、基材、目标金属元素、最小异物尺寸、检测区域、节拍及是否需要自动报告。

配置与合规说明

页面依据供应商公开资料整理。具体测量能力受样品、光学配置、测量模式、环境和软件选件影响，正式采购以供应商最新规格书、具体料号和技术协议为准。