选型判断
先确认这台仪器是否真正匹配你的实验目标
- 明确样品材料、尺寸、结构和表面状态
- 确认目标膜层、结构或纳米属性及预期量程
- 核对光谱范围、入射角、光斑或扫描范围
- 确认测量速度、点位数量与自动化节拍
- 评估样品台尺寸、承重、定位和环境要求
- 确认分析模型、数据库、报告和数据接口
- 核对校准标准、验收方法和计量溯源
- 使用代表性样品验证重复性、相关性和方法适用性
产品图片暂不可用
产品简介
采用旋转补偿器和 CCD 同步光谱检测,可在最短约 0.05 秒采集完整光谱;不同配置覆盖约 193–1690 nm,适合薄膜表征、原位监控和自动映射。
采用旋转补偿器和 CCD 同步光谱检测,可在最短约 0.05 秒采集完整光谱;不同配置覆盖约 193–1690 nm,适合薄膜表征、原位监控和自动映射。
适用于半导体、介质、有机物、薄金属、光学涂层以及 ALD、CVD、刻蚀等过程的原位监测。
根据光谱范围选择 D、X、U、V 或 NIR 配置,并确认固定/自动角度、原位安装和 XY 映射平台。
页面依据供应商公开资料整理。实际性能受型号配置、光学组件、样品、环境和软件选件影响,正式采购以供应商最新规格书、具体料号和技术协议为准。
| 参数项 | 数值 |
|---|---|
| 品牌 | J.A. Woollam |
| 型号 | M-2000 |
| 配置 | 旋转补偿器椭偏仪 RCE |
| 光谱范围 | 按配置约 193–1690 nm |
| 波长数量 | 约 390–700+ |
| 探测器 | CCD |
| 入射角 | 20–90°或45–90°(依平台) |
| 完整光谱最快采集 | 0.05 s |
| 软件 | CompleteEASE |
选型判断
配置清单
代理服务
可协助需求梳理、样品测试、方法评估、配置核对、安装培训及售后对接;授权、价格、交期和供货范围以正式商务确认为准。
应用场景
通用薄膜表征
原位过程监控
大面积均匀性映射
光学涂层分析
资料依据
页面内容以品牌方公开资料、产品参数和售前配置复核为基础。正式价格、授权关系、供货周期和最终配置以商务确认为准。
资料核验:2026-09-01