选型判断
先确认这台仪器是否真正匹配你的实验目标
- 明确样品材料、尺寸、结构和表面状态
- 确认目标膜层、结构或纳米属性及预期量程
- 核对光谱范围、入射角、光斑或扫描范围
- 确认测量速度、点位数量与自动化节拍
- 评估样品台尺寸、承重、定位和环境要求
- 确认分析模型、数据库、报告和数据接口
- 核对校准标准、验收方法和计量溯源
- 使用代表性样品验证重复性、相关性和方法适用性

产品简介
采用旋转补偿器和 CCD 同步光谱检测,可在最短约 0.05 秒采集完整光谱;不同配置覆盖约 193–1690 nm,适合薄膜表征、原位监控和自动映射。
J.A. Woollam M-2000 采用旋转补偿器椭偏技术与高速 CCD 阵列,可在一次采集中同时获取数百个波长的数据。模块化光学结构兼顾实验室台式测量、自动角度、面内映射及原位过程连接,适用于需要速度和精度兼顾的薄膜表征。
J.A. Woollam M-2000 高速光谱椭偏仪 对应型号为 M-2000,本页参数按制造商当前公开产品页或规格资料逐项核对,便于方案比较和采购选型。
半导体薄膜、光学涂层、光伏材料、聚合物、透明导电膜、原位沉积或刻蚀监控和大面积均匀性映射。
建立测量方案时,应结合样品材料、结构尺度、所需数据类型、测量节拍、自动化接口和环境控制条件确定配置。
建议重点确认光谱或扫描范围、样品尺寸、空间分辨率、重复性、测量速度、分析软件、自动平台和所需附件。扩展波段、探测器、样品台与应用模块可能属于选件,应按具体料号核对。
| 参数项 | 数值 |
|---|---|
| 品牌 | J.A. Woollam |
| 型号 | M-2000 |
| 椭偏结构 | 旋转补偿器椭偏仪 RCE |
| D 型波长范围 | 193–1000 nm |
| X-210 型范围 | 210–1000 nm |
| X/U 型范围 | 245–1000 nm |
| V 型范围 | 370–1000 nm |
| NIR 扩展 | 1005–1690 nm |
| 波长数量 | 约 390–500;NIR 另加约 190 |
| 探测器 | CCD 阵列 |
| 自动角度范围 | 45°–90° |
| 最短完整光谱采集 | 0.05 s |
| 典型采集时间 | 2–5 s |
| 最大基底厚度 | 18 mm |
选型判断
配置清单
代理服务
可协助需求梳理、样品测试、方法评估、配置核对、安装培训及售后对接;授权、价格、交期和供货范围以正式商务确认为准。
应用场景
通用薄膜表征
原位过程监控
大面积均匀性映射
光学涂层分析
资料依据
页面内容以品牌方公开资料、产品参数和售前配置复核为基础。正式价格、授权关系、供货周期和最终配置以商务确认为准。
资料核验:2026-09-01