选型判断
先确认这台仪器是否真正匹配你的实验目标
- 明确样品材料、尺寸、结构和表面状态
- 确认目标膜层、结构或纳米属性及预期量程
- 核对光谱范围、入射角、光斑或扫描范围
- 确认测量速度、点位数量与自动化节拍
- 评估样品台尺寸、承重、定位和环境要求
- 确认分析模型、数据库、报告和数据接口
- 核对校准标准、验收方法和计量溯源
- 使用代表性样品验证重复性、相关性和方法适用性
产品图片暂不可用
产品简介
高精度可变角光谱椭偏仪,标准覆盖 240–2500 nm,并可扩展至 193–4000 nm,用于半导体、介质、聚合物、金属及复杂多层膜的厚度和光学常数研究。
高精度可变角光谱椭偏仪,标准覆盖 240–2500 nm,并可扩展至 193–4000 nm,用于半导体、介质、聚合物、金属及复杂多层膜的厚度和光学常数研究。
适用于半导体薄膜、多层光学涂层、介质、金属、聚合物、液体界面和温变材料研究。
根据目标材料选择 DUV、NIR/IR 扩展、聚焦光斑、温控台、液体池和自动样品平台。
页面依据供应商公开资料整理。实际性能受型号配置、光学组件、样品、环境和软件选件影响,正式采购以供应商最新规格书、具体料号和技术协议为准。
| 参数项 | 数值 |
|---|---|
| 品牌 | J.A. Woollam |
| 型号 | VASE |
| 配置 | RAE + AutoRetarder |
| 标准光谱范围 | 240–2500 nm |
| 扩展光谱范围 | 193–4000 nm |
| 入射角 | 15–90 ° |
| 角度准确度 | 0.01 ° |
| 典型采集速度 | 0.1–3 s/波长 |
| 软件 | WVASE |
选型判断
配置清单
代理服务
可协助需求梳理、样品测试、方法评估、配置核对、安装培训及售后对接;授权、价格、交期和供货范围以正式商务确认为准。
应用场景
半导体与介质薄膜
多层光学涂层
各向异性材料
温变与液体界面研究
资料依据
页面内容以品牌方公开资料、产品参数和售前配置复核为基础。正式价格、授权关系、供货周期和最终配置以商务确认为准。
资料核验:2026-09-01