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电子显微与微区分析平台配置要点
围绕SEM、TEM、FIB、冷冻电镜和能谱分析,梳理材料、生命科学和半导体场景的配置关注点。
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产品简介
JEOL JIB-4700F MultiBeam System 属于电镜/Cryo-EM/FIB-SEM高端产品池,适合结构生物学平台、材料学院、半导体失效分析、先进制造研发中心。典型应用包括蛋白结构解析、纳米材料形貌分析、截面制样、半导体失效分析。该型号用于显微与成像平台转型上架,建议销售前复核授权、供货周期、配置清单和正式技术参数。
JEOL JIB-4700F MultiBeam FIB-SEM 双束系统是一款面向科研与工业表征的FIB-SEM 多束系统。系统围绕高质量成像、稳定分析和可重复工作流程设计,可根据样品类型与研究目标组合相应探测器和分析附件。
适用于半导体截面与失效分析、TEM 薄片制备、微纳加工及材料三维结构重构。
建议根据目标分辨率、样品尺寸与导电性、低电压或低真空需求、每日样品量,以及 EDS、EBSD、STEM 或自动化功能确定具体配置。涉及不同镜筒、物镜或历史型号时,应按具体版本核对。
| 参数项 | 数值 |
|---|---|
| 品牌 | JEOL |
| 型号 | JIB-4700F MultiBeam |
| 系统类型 | FIB-SEM 多束系统 |
| SEM 电子源 | In-lens Schottky 场发射源 |
| 低电压分辨率 | 1.6 nm @ 1 kV |
| 最大探针电流 | 300 nA |
| 物镜 | 混合锥形物镜 |
| 减速模式 | 支持 GENTLEBEAM 模式 |
| FIB 离子源 | Ga 液态金属离子源 |
| 三维采集 | Slice and View 自动切片、观察与分析 |
| 探测系统 | 柱内探测系统与多信号成像 |
| 典型用途 | 截面分析、TEM 薄片制备、三维材料表征 |