KLA PROLITH 计算光刻与工艺仿真软件

产品概述

面向半导体光刻研发和工艺优化的计算光刻仿真平台，可利用光学和光刻胶动力学模型评估成像、材料、曝光及图形化工艺窗口，减少实体实验成本。

核心特点

• 计算光刻和图形化工艺仿真
• 支持复杂膜堆、基底形貌和光刻胶模型
• 用于浸没式、多重图形化及 EUV 等技术评估
• 帮助优化工艺窗口并降低晶圆厂实验成本

典型应用

适用于光刻工艺研发、材料筛选、掩模与成像评估、多重图形化、EUV 和先进封装厚胶工艺模拟。

选型提示

确认目标光刻技术、光源、投影光学、掩模、材料堆栈、光刻胶模型、实验校准数据和所需软件模块。

配置与合规说明

页面依据供应商公开资料整理。实际性能受具体配置、样品、环境、软件和应用方法影响，正式采购以供应商最新规格书、具体料号和技术协议为准。