KLA PROLITH 计算光刻仿真软件

产品概述

KLA PROLITH 是用于虚拟光刻与图形化工艺研究的计算光刻软件。它以基础光学和光刻胶动力学模型模拟掩模、材料、曝光设备和工艺条件对晶圆图形的影响，使工程人员能够在投入昂贵的晶圆实验前筛选设计空间并优化工艺窗口。

KLA PROLITH 计算光刻仿真软件 对应型号为 PROLITH。内容依据制造商公开产品资料整理，突出系统原理、能力边界和适用场景，便于技术人员进行初步方案比较。

核心特点

• 计算基础：光学与光刻胶动力学模型。
• 结构支持：复杂膜堆栈。
• 地形支持：嵌入式基底形貌。
• 材料模型：支持光刻胶模型校准。
• 设计变量：掩模设计。
• 材料变量：光刻胶与膜层性质。
• 设备变量：扫描机设置。
• 工艺变量：曝光与处理参数。
• 图形化支持：单次、浸没式及双重图形化。

典型应用

光刻工艺开发、掩模方案比较、光刻胶建模、浸没式光刻、双重图形化、扫描机参数评估和工艺窗口优化。

建立应用流程时，应结合样品尺寸、材料组成、目标结构尺度、检测节拍、数据分析和自动化接口确定测量方案。

选型提示

选型时建议逐项确认分辨率或量测范围、样品兼容性、成像或仿真模式、探测与分析模块、软件版本、自动化程度及现场条件。属于选件的模块应按实际任务单独确认。