Onto Innovation Aspect 高深宽比结构光学计量系统

产品概述

Onto Innovation Aspect 是面向高深宽比结构的非破坏红外光学临界尺寸计量平台。系统利用 IRCD 与 Z-profile 信息分析深沟槽和复杂三维结构，可配合 Ai Diffract 建模能力缩短配方建立时间并提高量产监控效率。

Onto Innovation Aspect 高深宽比结构光学计量系统 对应型号为 Aspect。内容依据制造商公开产品资料整理，突出系统原理、能力边界和适用场景，便于技术人员进行初步方案比较。

核心特点

• 测量原理：IRCD 红外光学临界尺寸。
• 测量方式：非接触、非破坏。
• 结构能力：高深宽比结构 Z-profile。
• 建模软件：Ai Diffract。
• 建模效率：时间到结果最高可缩短约 90%。
• 主要对象：沟槽、孔与三维存储结构。
• 应用节点：先进及成熟工艺。
• 生产用途：在线过程控制。
• 数据能力：结构尺寸与轮廓参数。

典型应用

3D NAND、2D/3D DRAM、CMOS 图像传感器、功率器件、外延结构及高深宽比沟槽和孔结构。

建立应用流程时，应结合样品尺寸、材料组成、目标结构尺度、检测节拍、数据分析和自动化接口确定测量方案。

选型提示

选型时建议逐项确认分辨率或量测范围、样品兼容性、成像或仿真模式、探测与分析模块、软件版本、自动化程度及现场条件。属于选件的模块应按实际任务单独确认。