Onto Innovation Iris 系列薄膜光学计量系统

产品概述

面向先进、成熟和特色工艺的薄膜光学计量平台，结合深紫外光谱椭偏和专有激光椭偏技术，用于普通与关键超薄膜、OCD、翘曲及应力测量。

核心特点

• 普通膜与关键超薄膜一体化计量
• 支持深紫外光谱椭偏和激光椭偏
• 关键多层超薄膜可覆盖约 10–50 Å
• 支持 OCD、晶圆翘曲和膜应力应用

典型应用

适用于逻辑、存储、特色器件和先进封装的栅极膜、普通膜、关键超薄膜及晶圆形貌过程控制。

选型提示

确认晶圆尺寸、膜层材料和厚度、DUV/激光椭偏配置、OCD 模型、应力测量和产线节拍。

配置与合规说明

页面依据供应商公开资料整理。实际性能受具体配置、样品、环境、软件和应用方法影响，正式采购以供应商最新规格书、具体料号和技术协议为准。