Onto Innovation Iris G2 薄膜光学计量系统

产品概述

Onto Innovation Iris G2 是面向先进与成熟制程常规及关键薄膜测量的高吞吐光学计量系统。平台组合深紫外光谱椭偏与专有激光椭偏技术，可覆盖超薄、多层和复杂膜系，并用于晶圆级过程控制。

Onto Innovation Iris G2 薄膜光学计量系统 对应型号为 Iris G2。内容依据制造商公开产品资料整理，突出系统原理、能力边界和适用场景，便于技术人员进行初步方案比较。

核心特点

• 核心技术：深紫外光谱椭偏 DUV SE。
• 辅助技术：专有激光椭偏。
• 超薄膜能力：10–50 Å 级超薄多层膜。
• 测量项目：膜厚与光学性质。
• 扩展计量：二维/三维 OCD。
• 晶圆计量：Bow / Warp / Stress。
• 生产定位：高吞吐在线计量。
• 工艺范围：先进与成熟节点。
• 模型分析：多层膜与复杂结构建模。

典型应用

逻辑与存储器薄膜、超薄多层结构、介质与金属膜、二维/三维 OCD、晶圆弓翘、应力和先进制程监控。

建立应用流程时，应结合样品尺寸、材料组成、目标结构尺度、检测节拍、数据分析和自动化接口确定测量方案。

选型提示

选型时建议逐项确认分辨率或量测范围、样品兼容性、成像或仿真模式、探测与分析模块、软件版本、自动化程度及现场条件。属于选件的模块应按实际任务单独确认。