Park Systems NX-Wafer 全自动晶圆原子力显微镜

产品概述

Park Systems NX-Wafer 是用于半导体生产线纳米计量的全自动晶圆原子力显微镜，从晶圆接收、探针选择、目标定位、扫描、分析到报告均可按主机配方运行。系统支持缺陷图坐标导入、CMP 长程轮廓和高深宽比结构测量。

Park Systems NX-Wafer 全自动晶圆原子力显微镜 对应型号为 NX-Wafer，本页参数按制造商当前公开产品页或规格资料逐项核对，便于方案比较和采购选型。

核心特点

• 产品类型：全自动晶圆 AFM。
• 目标晶圆：300 mm；产品线含 200 mm 版本。
• 自动化：晶圆搬送至分析报告全流程自动。
• 主机通信：支持配方接收与生产线集成。
• 探针管理：自动探针交换。
• 扫描模式：True Non-Contact、接触、轻敲。
• 缺陷复查：支持缺陷坐标导入 ADR。
• 目标定位：无需参考标记的目标重定位。
• CMP 计量：支持长程轮廓、dishing、erosion。

典型应用

裸晶圆自动缺陷复查、CMP dishing/erosion、铜焊盘、先进封装、微透镜、沟槽结构和生产线表面粗糙度控制。

建立测量方案时，应结合样品材料、结构尺度、所需数据类型、测量节拍、自动化接口和环境控制条件确定配置。

选型提示

建议重点确认光谱或扫描范围、样品尺寸、空间分辨率、重复性、测量速度、分析软件、自动平台和所需附件。扩展波段、探测器、样品台与应用模块可能属于选件，应按具体料号核对。