Thermo Scientific Talos F200X G2 分析型场发射透射电子显微镜

产品概述

面向高通量成像和纳米尺度化学分析的 200 kV 场发射 TEM/STEM，集成 Super-X 四探头 EDS，在二维成像、元素面分布和三维断层分析之间建立统一工作流。

核心特点

• 电子源：X-FEG 或 X-CFEG。
• HRTEM线分辨率：≤0.10 nm。
• STEM分辨率：≤0.16 nm（X-FEG）；≤0.14 nm、100 pA（X-CFEG）。
• Super-X EDS：4 个对称、无窗、带快门 SDD 探测器。
• EELS能量分辨率：≤0.8 eV（X-FEG）；≤0.3 eV（X-CFEG）。
• 电子枪亮度：1.8×10⁹ A/cm²·sr（X-FEG，200 kV）。

典型应用

适用于催化剂、电池、金属合金、半导体、矿物、纳米颗粒和先进功能材料的高分辨形貌、快速 EDS 元素分析及三维化学表征。

选型提示

选型时应结合目标分辨率、加速电压、样品尺寸与导电性、真空或低温条件、电子/离子束流范围、探测器组合、元素分析能力和自动化通量。涉及可选探测器、EDS、EBSD、EELS、冷冻附件或原位样品台时，应按具体配置逐项确认。