ZEISS GeminiSEM 560 场发射扫描电子显微镜

产品概述

ZEISS GeminiSEM 560 采用 Gemini 3 电子光学系统，在低加速电压和高电流条件下兼顾表面灵敏度、分辨率与分析能力。磁场无干扰成像设计便于磁性材料观察，自动化工具可帮助不同经验水平的操作者建立稳定成像条件。

ZEISS GeminiSEM 560 场发射扫描电子显微镜 对应型号为 GeminiSEM 560。内容依据制造商公开产品资料整理，突出系统原理、能力边界和适用场景，便于技术人员进行初步方案比较。

核心特点

• 电子光学系统：Gemini 3。
• 低电压分辨能力：低于 1 kV 时可达亚纳米级。
• 放大倍率：小于 1×至 500,000×。
• 成像环境：磁场无干扰设计。
• 自动化：Smart Autopilot。
• 样品交换：Gentle Airlock。
• 分析接口：双 EDS 接口。
• 主要探测：In-lens / SE / BSE 可配置。
• 低真空能力：按系统配置。

典型应用

纳米材料、半导体器件、能源材料、磁性材料、失效分析、颗粒与表面形貌，以及 EDS/EBSD 联用分析。

建立应用流程时，应结合样品尺寸、材料组成、目标结构尺度、检测节拍、数据分析和自动化接口确定测量方案。

选型提示

选型时建议逐项确认分辨率或量测范围、样品兼容性、成像或仿真模式、探测与分析模块、软件版本、自动化程度及现场条件。属于选件的模块应按实际任务单独确认。