选型判断
先确认这台仪器是否真正匹配你的实验目标
- 明确样品类型、尺寸、结构和目标应用
- 确认目标分辨率、缺陷尺寸或计量量程
- 核对成像、检测、曝光或分析原理
- 确认样品台、自动装载和目标吞吐量
- 评估环境、安装空间、公用工程和安全要求
- 确认软件、数据格式、报告及主机通讯
- 核对校准、验收、计量溯源和合规要求
- 使用代表性样品验证性能和流程适用性

产品简介
实验室三维 X 射线显微镜,采用几何放大与光学放大结合的 Versa 架构,可对不同尺寸和密度样品进行无损三维内部成像,空间分辨率最高约 0.5 μm。
实验室三维 X 射线显微镜,采用几何放大与光学放大结合的 Versa 架构,可对不同尺寸和密度样品进行无损三维内部成像,空间分辨率最高约 0.5 μm。
适用于半导体封装、复合材料、电池、地质、生物、增材制造和失效分析中的多尺度三维结构研究。
确认样品尺寸、密度、目标分辨率、视野、扫描时间、原位加载及相衬和自动装载需求。
页面依据供应商公开资料整理。实际性能受具体配置、样品、环境、软件和应用方法影响,正式采购以供应商最新规格书、具体料号和技术协议为准。
| 参数项 | 数值 |
|---|---|
| 品牌 | ZEISS(蔡司) |
| 型号 | Xradia 620 Versa |
| 成像原理 | 三维 X 射线显微成像 XRM |
| 空间分辨率 | 最高约 0.5 μm |
| 最小体素 | 约 40 nm |
| RaaD | 约 1 μm @50 mm 工作距离 |
| 测量扩展长度 | 约 4.8 mm |
| 软件 | Scout-and-Scan / 重建分析 |
选型判断
配置清单
代理服务
可协助需求梳理、样品测试、方法评估、配置核对、安装培训及售后对接;授权、价格、交期和供货范围以正式商务确认为准。
应用场景
半导体封装失效分析
电池与能源材料
复合材料和增材制造
原位与多尺度三维成像
资料依据
页面内容以品牌方公开资料、产品参数和售前配置复核为基础。正式价格、授权关系、供货周期和最终配置以商务确认为准。
资料核验:2026-09-01