选型判断
先确认这台仪器是否真正匹配你的实验目标
- 明确样品类型、尺寸、结构和目标应用
- 确认目标分辨率、缺陷尺寸或计量量程
- 核对成像、检测、曝光或分析原理
- 确认样品台、自动装载和目标吞吐量
- 评估环境、安装空间、公用工程和安全要求
- 确认软件、数据格式、报告及主机通讯
- 核对校准、验收、计量溯源和合规要求
- 使用代表性样品验证性能和流程适用性

产品简介
实验室纳米级 X 射线显微镜,可在样品原生环境下进行无损二维和三维成像,空间分辨率最低约 50 nm、体素最低约 16 nm,支持三维及四维原位研究。
实验室纳米级 X 射线显微镜,可在样品原生环境下进行无损二维和三维成像,空间分辨率最低约 50 nm、体素最低约 16 nm,支持三维及四维原位研究。
适用于电池电极、半导体、纳米多孔材料、催化剂、复合材料和生物样品的内部纳米结构成像。
确认样品材料、厚度、目标分辨率、吸收/相衬模式、视野和原位环境,并比较 Xradia 800 Ultra 与 810 Ultra 配置。
页面依据供应商公开资料整理。实际性能受具体配置、样品、环境、软件和应用方法影响,正式采购以供应商最新规格书、具体料号和技术协议为准。
| 参数项 | 数值 |
|---|---|
| 品牌 | ZEISS(蔡司) |
| 型号 | Xradia 810 Ultra |
| 成像类型 | 纳米 X 射线显微镜 |
| 空间分辨率 | 最低约 50 nm |
| 最小体素 | 约 16 nm |
| 数据维度 | 2D / 3D / 4D |
| 测量特点 | 无损、原生环境 |
| 系列 | Xradia 800 / 810 Ultra |
选型判断
配置清单
代理服务
可协助需求梳理、样品测试、方法评估、配置核对、安装培训及售后对接;授权、价格、交期和供货范围以正式商务确认为准。
应用场景
电池与能源材料
半导体纳米结构
多孔与催化材料
三维/四维原位研究
资料依据
页面内容以品牌方公开资料、产品参数和售前配置复核为基础。正式价格、授权关系、供货周期和最终配置以商务确认为准。
资料核验:2026-09-01