ZEISS Xradia 810 Ultra 纳米X射线显微镜

产品概述

ZEISS Xradia 810 Ultra 采用实验室旋转阳极铬靶 X 射线源和 Fresnel 区板光学，可在不破坏样品的情况下获得纳米尺度三维结构。系统提供高分辨率与大视野两种成像模式，并可选 Zernike 相衬增强低吸收材料边界。

ZEISS Xradia 810 Ultra 纳米X射线显微镜 对应型号为 Xradia 810 Ultra。内容依据制造商公开产品资料整理，突出系统原理、能力边界和适用场景，便于技术人员进行初步方案比较。

核心特点

• X 射线源：旋转阳极铬靶。
• 光子能量：5.4 keV。
• 高分辨模式：50 nm 空间分辨率。
• 高分辨视野：16 µm。
• 高分辨体素：16 nm。
• 大视野模式：150 nm 空间分辨率。
• 大视野范围：65 µm。
• 大视野体素：64 nm。
• 标准衬度：吸收衬度。

典型应用

半导体互连、电池电极、纳米材料、多孔材料、复合材料、生物组织及小体积高分辨三维结构研究。

建立应用流程时，应结合样品尺寸、材料组成、目标结构尺度、检测节拍、数据分析和自动化接口确定测量方案。

选型提示

选型时建议逐项确认分辨率或量测范围、样品兼容性、成像或仿真模式、探测与分析模块、软件版本、自动化程度及现场条件。属于选件的模块应按实际任务单独确认。