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生命科学高端成像平台选型要点
从样本类型、成像模式、通量、活细胞环境和平台共享管理角度,梳理生命科学高端成像平台的选型逻辑。
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产品简介
新一代反射式共聚焦激光扫描测量显微镜,可高速获取微细表面的三维形貌、轮廓和粗糙度,并利用长度测量模块的位置信息提高大面积拼接数据可靠性。
新一代反射式共聚焦激光扫描测量显微镜,可高速获取微细表面的三维形貌、轮廓和粗糙度,并利用长度测量模块的位置信息提高大面积拼接数据可靠性。
OLS5100 同时提供激光共聚焦、Laser-DIC、彩色和 Color-DIC 图像,覆盖约 54×–17280×总放大范围,适用于高重复性的研发和质量计量。
适用于半导体、电子、金属、涂层、薄膜、精密加工、汽车、电池和材料研究中的粗糙度、台阶、轮廓、面积及体积测量。
确认目标横向和高度尺度、物镜、平台行程、样品高度、表面反射特性、拼接面积、ISO粗糙度参数及自动分析需求。
基于位置反馈的拼接与高密度三维数据有利于兼顾局部微细特征和较大区域的整体形貌评价。
| 参数项 | 数值 |
|---|---|
| 品牌 | Evident(原 Olympus 奥林巴斯) |
| 型号 | LEXT OLS5100 |
| 系统类型 | 三维测量激光显微镜 |
| 测量原理 | 反射式共聚焦激光扫描 |
| 总放大范围 | 约 54×–17280× |
| 视野范围 | 约 16–5120 μm |
| 高度显示分辨率 | 0.5 nm |
| 动态范围 | 16 bit |
选型判断
配置清单
代理服务
可协助需求梳理、样品测试、方法评估、配置核对、安装培训及售后对接;授权、价格、交期和供货范围以正式商务确认为准。
应用场景
半导体和电子材料
精密加工表面
涂层、薄膜与电池
粗糙度及三维形貌
资料依据
页面内容以品牌方公开资料、产品参数和售前配置复核为基础。正式价格、授权关系、供货周期和最终配置以商务确认为准。
资料核验:2026-09-03