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光学三维轮廓与白光干涉选型要点
面向材料表面、精密加工和半导体封装，说明三维轮廓、白光干涉和激光显微测量的适配场景。
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产品简介
采用 CFI60 无限远光学的正置工业材料显微镜平台，可用于明场、偏光及分散观察等材料分析任务，并提供精细调焦、旋转载物台和多种物镜配置。
产品概述
采用 CFI60 无限远光学的正置工业材料显微镜平台，可用于明场、偏光及分散观察等材料分析任务，并提供精细调焦、旋转载物台和多种物镜配置。
核心特点
- CFI60 无限远校正光学
- 30 mm 调焦行程和 1 μm 微调刻度
- 可配置偏光、正交/锥光和分散观察
- 高精度 360° 旋转载物台
典型应用
适用于矿物、晶体、纤维、金属、陶瓷及其他各向异性材料的偏光、分散和常规显微观察。
选型提示
确认材料类型、观察方式、偏光/分散附件、物镜、旋转载物台、补偿器、相机及图像分析需求。
配置与合规说明
页面依据供应商公开资料整理。实际性能受具体配置、样品、环境、软件和应用方法影响，正式采购以供应商最新规格书、具体料号和技术协议为准。
| 参数项 | 数值 |
|---|---|
| 品牌 | Nikon（尼康） |
| 型号 | ECLIPSE LV100ND |
| 系统类型 | 正置工业材料显微镜 |
| 光学系统 | CFI60 无限远光学 |
| 调焦行程 | 30 mm |
| 微调最小读数 | 1 μm |
| 载物台 | 360° 高精度旋转载物台 |
| 观察方式 | 偏光 / 正交 / 锥光 / 分散（依配置） |
品牌Nikon平台半导体/薄膜/表面检测型号ECLIPSE LV100ND
选型判断
先确认这台仪器是否真正匹配你的实验目标
- 明确样品类型、尺寸、材料和观察目标
- 确认放大倍率、视野、分辨率或测量精度
- 核对显微成像、体视观察或影像测量原理
- 确认物镜、照明、相机及观察方式配置
- 评估样品台、工作距离和自动化需求
- 确认软件、数据格式、报告及主机通讯
- 核对校准、验收、溯源和适用标准
- 使用代表性样品验证成像或测量效果
配置清单
询价前需要确认的配置项
- 设备主机及核心光学系统
- 物镜、目镜、镜筒或变倍镜头
- 照明光源、滤块和偏光组件
- 相机、探测器及图像采集模块
- 样品台、夹具和自动对焦模块
- 控制电脑、分析和报告软件
- 隔振、遮光、温控及安装附件
- 安装调试、方法开发、验收和培训
代理服务
选型与交付支持
可协助需求梳理、样品测试、方法评估、配置核对、安装培训及售后对接；授权、价格、交期和供货范围以正式商务确认为准。
应用场景
哪些需求适合优先评估这个型号
矿物和晶体分析
纤维与颗粒鉴别
金属和陶瓷材料
偏光与分散观察
资料依据
页面内容以品牌方公开资料、产品参数和售前配置复核为基础。正式价格、授权关系、供货周期和最终配置以商务确认为准。
资料核验：2026-09-02