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光学三维轮廓与白光干涉选型要点
面向材料表面、精密加工和半导体封装,说明三维轮廓、白光干涉和激光显微测量的适配场景。
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产品简介
面向工业材料和大型样品观察的正置显微镜平台,采用 CFI60 无限远光学,可配置明场、暗场、DIC、偏光等观察方式,并兼顾图像记录和测量分析。
面向工业材料和大型样品观察的正置显微镜平台,采用 CFI60 无限远光学,可配置明场、暗场、DIC、偏光等观察方式,并兼顾图像记录和测量分析。
适用于金属、电子、半导体、陶瓷、复合材料、精密零件及失效分析中的表面与微观组织观察。
确认样品尺寸、物镜倍率、照明方式、明暗场/DIC/偏光、载物台、相机和测量分析软件。
页面依据供应商公开资料整理。实际性能受具体配置、样品、环境、软件和应用方法影响,正式采购以供应商最新规格书、具体料号和技术协议为准。
| 参数项 | 数值 |
|---|---|
| 品牌 | Nikon(尼康) |
| 型号 | ECLIPSE LV150N |
| 系统类型 | 正置工业材料显微镜 |
| 光学系统 | CFI60 无限远光学 |
| 观察方式 | 明场 / 暗场 / DIC / 偏光(依配置) |
| 照明 | 落射照明 |
| 用途 | 材料表面与微观组织 |
| 数字化 | 支持相机和分析软件 |
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面向材料表面、精密加工和半导体封装,说明三维轮廓、白光干涉和激光显微测量的适配场景。
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配置清单
代理服务
可协助需求梳理、样品测试、方法评估、配置核对、安装培训及售后对接;授权、价格、交期和供货范围以正式商务确认为准。
应用场景
金属与材料组织
电子和半导体
精密零件表面
失效与质量分析
资料依据
页面内容以品牌方公开资料、产品参数和售前配置复核为基础。正式价格、授权关系、供货周期和最终配置以商务确认为准。
资料核验:2026-09-02