Dimension XR
布鲁克 Bruker Dimension XR 高端扫描探针显微镜
面向纳米力学、纳米电学和纳米电化学研究的高性能扫描探针显微镜平台，提供不同专用配置，并支持 PeakForce、DataCube、SECM 和 AFM-nDMA 等模式。
品牌Bruker（布鲁克）
型号Dimension XR
XY 扫描范围≥90 × 90（Icon 扫描头） μm
NX-Wafer
Park Systems NX-Wafer 全自动晶圆原子力显微镜
面向半导体晶圆厂在线计量的全自动 AFM，可实现晶圆搬运、配方执行、探针交换、多目标扫描、自动分析和报告，并支持自动缺陷复查及 CMP 轮廓测量。
品牌Park Systems
型号NX-Wafer
晶圆规格200 / 300 mm
FX40
Park Systems FX40 全自动研究级原子力显微镜
面向小样品高分辨率研究的自动化 AFM，集成自动探针交换、激光对准、PSPD 居中和样品导航，并采用正交扫描及 True Non-contact 模式。
品牌Park Systems
型号FX40
样品尺寸20 × 20 mm；特定配置最高约 100 mm
SE-2000
Semilab SE-2000 模块化宽光谱椭偏仪
高度模块化的光谱椭偏系统，拥有 70 多种配置，单系统可覆盖约 190 nm 深紫外至 25 μm 中红外，用于复杂多层膜及各向异性材料分析。
品牌Semilab
型号SE-2000
光谱范围190 nm–25 μm（依配置）
µSE-3000
Semilab µSE-3000 微光斑光谱椭偏仪
面向图形化、化合物半导体及 OLED 等样品的微光斑光谱椭偏系统，可配置全自动测量和 300 mm 样品映射，用于局部膜厚及光学性质表征。
品牌Semilab
型号µSE-3000
测量类型微光斑光谱椭偏
M-2000
J.A. Woollam M-2000 高速光谱椭偏仪
采用旋转补偿器和 CCD 同步光谱检测，可在最短约 0.05 秒采集完整光谱；不同配置覆盖约 193–1690 nm，适合薄膜表征、原位监控和自动映射。
品牌J.A. Woollam
型号M-2000
配置旋转补偿器椭偏仪 RCE
VASE
J.A. Woollam VASE 可变角光谱椭偏仪
高精度可变角光谱椭偏仪，标准覆盖 240–2500 nm，并可扩展至 193–4000 nm，用于半导体、介质、聚合物、金属及复杂多层膜的厚度和光学常数研究。
品牌J.A. Woollam
型号VASE
配置RAE + AutoRetarder
IR-VASE Mark II
J.A. Woollam IR-VASE Mark II 红外光谱椭偏仪
将 FTIR 的化学灵敏度与椭偏测量的薄膜灵敏度结合，覆盖约 1.7–30 μm 近红外至远红外光谱，用于薄膜、体材料、载流子和化学组成表征。
品牌J.A. Woollam
型号IR-VASE Mark II
配置旋转补偿器椭偏仪 RCE
Filmetrics F50
KLA Filmetrics F50 自动薄膜厚度映射仪
采用光谱反射法进行自动多点薄膜厚度映射，可快速测量膜厚和折射率分布；F50 系列按光谱配置覆盖约 0.005 μm 至 2000 μm 的不同膜厚范围。
品牌KLA Filmetrics
型号Filmetrics F50
测量原理光谱反射法
Filmetrics F54-XY
KLA Filmetrics F54-XY 自动薄膜厚度映射系统
在 Filmetrics F20 系列光谱反射测量基础上增加自动 XY 映射，可对图形化或非图形化样品进行膜厚和折射率分布测量，映射速度最高约每秒 2 点。
品牌KLA Filmetrics
型号Filmetrics F54-XY
测量原理光谱反射法
ContourX-500
布鲁克 Bruker ContourX-500 全自动台式三维光学轮廓仪
全自动台式白光干涉三维光学轮廓仪，结合编码 XY 平台、自动倾斜测头和集成隔振，在紧凑体积内实现高精度表面形貌与粗糙度计量。
品牌Bruker（布鲁克）
型号ContourX-500
测量技术白光干涉（WLI）
ContourX-1000
布鲁克 Bruker ContourX-1000 全自动三维光学轮廓仪
落地式全自动白光干涉三维光学轮廓仪，配备自校准激光、300 mm 自动平台、自动倾斜测头和集成隔振，面向研发及高通量生产表面计量。
品牌Bruker（布鲁克）
型号ContourX-1000
测量模式PSI / USI / VSI / 可选薄膜